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表面垂直取向对HPDLC光栅特性的影响
为了提高聚合物/液晶(HPDLC)光栅的衍射效率并改善光栅的表面形貌,研究了表面垂直取向处理对HPDLC光栅的影响。首先,研究了表面垂直处理对液晶分子的取向作用,发现垂直取向层对液晶的锚定作用随着盒厚的增加而逐渐减弱,取向层的作用范围大概在3μm ~5μm之间;其次,对相分离程度进行了实验表征,结果表明,随着液晶盒厚度的增加,相分离开始的时间越来越快,并且分离程度也越来越彻底。最后,讨论了表面垂直取向对 HPDLC光栅衍射效率的影响,随着盒厚的增加,相分离出来的液晶微滴形成连续的区域,光栅的衍射效率逐渐升高,当盒厚增加到一定程度,其衍射效率和无取向处理的光栅接近。当盒厚过大时,垂直取向处理对HPDLC光栅散射损失并没有太大的改善,只有当盒厚适中(12μm)时,光栅的衍射效率最高,散射损失最小。李文萃,舒新建,杨燚,黄文彬 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
论利得和损失有关的会计问题和建议
文章先对利得和损失的概念及其与收入和费用的关系进行讨论,然后从利得和损失的两种分类对其会计核算进行了探讨,最后又提出了几个相关的问题和建议.吕坤艳,文义 - 财会研究文章来源： 万方数据 -
利用CT扫描研究干湿循环泥岩软化过程
对岩石遇水后力学性质的变化规律的研究,是水岩相互作用研究中一个重要的方向.通过对四组泥岩试样的干湿循环试验设计、力学性质测试和CT扫描裂缝统计试验,重点讨论了泥岩强度损伤的机制.研究发现:随着干湿循环次数的增加泥岩试样的强度损伤依次递增,而在第Ⅰ循环阶段后损伤最为明显;利用CT扫描统计样品干湿循环裂缝,发现样品中裂缝面积呈现上升趋势,其中第Ⅰ循环阶段裂缝面积占总裂缝面积的50%;最后深入讨论试验结果,得到了泥岩样品在干湿循环后强度损伤的主要原因是由于样品中裂缝的大面积产生,而首次遇水导致裂缝快速发育也是第Ⅰ干湿循环阶段后强度损失的主要原因.姚远 - 工程勘察文章来源： 万方数据 -
同步辐射小角散射法和中子衍射法研究中子辐照A1-B合金结构
为了研究He在材料中的行为,借助10B的(n,α)核反应,通过反应堆热中子对Al-B合金进行辐照,引入He原子密度达6.2*1025 m-3.采用同步辐射X射线小角散射法(Synchrotron small angle X-ray scattering,SAXS)原位测试了不同温度下合金中He的状态变化,并结合透射电镜(Transmission electron microscope,TEM)对试样进行了观察;采用X射线衍射和中子衍射法分析了合金晶格参数的变化.SAXS分析表明,随着温度升高试样内部的颗粒和孔洞消失,He泡数量不断增多、尺寸增大.700 oC下He泡的半径大约增大到10 nm,与室温时颗粒和孔洞相当.衍射分析表明,B原子引入使得Al晶格常数增大,但不存在可见的第二相,中子辐照使得生成的Li和He原子进入Al晶格,进一步加大了晶格常数.辐照后的样品加热使得He从晶格间隙位置扩散到晶界形成He泡,从而缓解了对晶格的挤压,导致了晶格常数的回复减小,第一性原理计算得到的间隙原子B、Li、He引起的晶格肿胀解释了这一结果.黄朝强,闫冠云,谢雷,孙良卫,陈波,刘耀光,盛六四,刘晓,吴忠华 - 核技术文章来源： 万方数据 -
甘薯病毒病害SPVD抗性鉴定方法及产量损失估计
为了建立规范、有效的甘薯病毒病害(sweet potato virus disease,SPVD)抗性鉴定方法,于2011-2012连续两年,利用田间人工嫁接病毒接穗的方法对12个甘薯品种进行抗性鉴定和产量损失测定.结果显示,嫁接接种后,接穗成活率接近100%,12个品种都有不同程度发病,病情指数在51.0~95.2之间;感染SPVD的甘薯植株叶绿素含量降低、蔓长缩短;单株薯块产量损失范围在55.1%~97.8%之间.研究表明,供试的12个甘薯主栽品种感染SPVD后均可引起严重的产量损失,且田间人工嫁接病毒接穗是一个有效的SPVD抗性鉴定方法.王爽,刘顺通,乔奇,张德胜,秦艳红,张振臣 - 植物保护学报文章来源： 万方数据 -
1〉40亿
虫苹果利用放假时间打工挣钱.有一天,在回家的路上突然下起了大雨,但虫苹果觉得花钱买伞有些不值."淋点雨能有什么大不了的!" 是他冒着雨跑回了家.但是到了晚上,虫苹果就浑身发冷并开始咳嗽.整个晚上虫苹果的房间里回响着"咳咳"的咳嗽声,最终他还是被送进了医院急诊室.第二天虫苹果在医院躺了一整天,再加上好几天都没能去打工,造成了不小的经济损失.- 天天爱学习（四年级）文章来源： 万方数据 -
252Cf(D2O)中子源实验室中子散射的模拟及验证
为了准确刻度中子剂量当量仪的性能参数以及验证中子剂量当量仪设计的准确性,在252Cf(D2O)源实验室进行实验校准之前,先采用MCNP5分别模拟分析实验室中空气、墙壁以及石蜡桶对探头中子计数的影响.模拟实验表明,在理想条件下,随着源与探头距离的增大,中子计数率越来越小;空气对中子计数的影响呈先增加后减小再增加的趋势,中子散射率不超过10%,且距离越近,空气散射的中子对探头计数的影响越小;当探头与源距离260cm左右时,石蜡桶对探头计数的影响最小,达到1%;墙壁对中子计数的影响随着探头与源距离增大而逐渐增大,当探头与源距离为360cm时,墙壁散射的中子是源中子计数的2倍;当源与探头距离为175cm时,空气、墙壁以及石蜡桶对源中子的散射最小,测量数据最精确.并通过实验与模拟数据对比表明,源与探头距离在125–300cm之间,计数率误差不超过30%,符合中子剂量测量的技术要求,从而验证了此中子剂量当量仪设计的准确性.田时海,王和义,陈旭,袁永刚,张林 - 核技术文章来源： 万方数据 -
PET核孔膜蚀刻速率影响因素的研究
核孔膜是通过重离子照射薄膜后进行化学蚀刻所得到的高性能过滤材料,蚀刻速率是影响高质量核孔膜制备的重要因素.本文探讨了不同蚀刻液浓度、温度以及重离子辐照能量对蚀刻速率的影响.利用140 MeV的32S离子在室温和真空条件下对4层堆叠的PET(polyethylene terephthalate)薄膜进行了辐照.在对辐照样品进行化学蚀刻期间采用电导法确定了径迹蚀刻速率Vt.结果表明:蚀刻速率与蚀刻温度呈指数相关,随蚀刻液浓度增加而线性增大;径迹蚀刻速率随能量损失率(离子能损)增大.研究确定,在入射32S能量为1.6 MeV·u-1时,NaOH浓度为1mol·L-1、蚀刻温度为85°C时最有利于形成圆柱形微孔.左振中,吴振东,屈国普,梁海英,鞠薇,陈东风,傅元勇 - 核技术文章来源： 万方数据
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