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长脉冲激光辐照下单层Hf02薄膜的温度场分析

原文链接：万方

• 作者：

  李洪敬

• 摘要：

  激光系统中的光学薄膜极易受到高能激光的辐照而产生热损伤,因此研究长脉冲激光作用下光学薄膜的温度场非常重要.建立了二维轴对称杂质模型,使用有限元方法计算了单层HfO.薄膜材料的瞬态温度分布,进一步分析了铂金杂质粒子的吸收系数、填满深度对膜层及其基底最大温升的影响.结果表明:相比于纯净HfO2薄膜,当薄膜中杂质粒子深度为100nm时,其表面最大温度增加1倍左右;当粒子深度大于750nm时,基底温度高于薄膜表面温度,从而可以使热损伤从薄膜基底开始.研究结果对于长脉冲激光系统中的光学薄膜的制备和预处理,具有一定的指导意义.

• 关键词：

  长脉冲激光 HfO2薄膜 温度场 铂金粒子

• 作者单位：

  南京理工大学理学院,江苏南京%南京晓庄学院教师教育学院,江苏南京

• 基金项目：

  国家自然科学基金(111204139)%南京晓庄学院青年基金(2011NxY71)

• 来源期刊：

  应用光学

• 年，卷(期)：

  201435005