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基于双磨头的磁流变抛光机床与工艺研究

原文链接：万方

• 作者：

  黄文,张云飞,郑永成,罗清,侯晶,袁志刚

• 摘要：

  针对传统单磨头磁流变抛光技术的不足,提出了一种新的双磨头磁流变抛光方法,并研制了一台八轴数控双磨头磁流变抛光机,具备了大口径平面、非球面及连续位相板的超精密、高效率加工能力。分别研究了大、小磨头材料去除特性及面形修正能力,不仅获得了稳定、有效的大、小抛光斑,而且获得了超精的大、小平面工艺样件。φ50 m m小平面经小磨头一次连续抛光,在φ45 mm内其面形精度PV由0.21λ收敛至0.08λ、RMS由0.053λ收敛至0.015λ;430 mm ×430 mm大平面经大磨头3次迭代抛光,在410 mm ×410 mm内其面形精度PV由0.4λ收敛至0.1λ、RM S由0.068λ收敛至0.013λ。由此表明,所研制的双磨头磁流变抛光机床具有较好的材料去除特性和较强的面形修形能力。

• 关键词：

  双磨头磁流变抛光 大口径连续位相板 材料去除特性 面形修正能力

• 作者单位：

  中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳,621900%成都精密光学工程研究中心,四川成都,610041

• 基金项目：

  国家“高档数控机床与基础制造装备”科技重大专项课题资助(2013ZX04006011)

• 来源期刊：

  应用光学

• 年，卷(期)：

  2014003