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高分辨X射线衍射元件的研制
X射线波带片是纳米X射线成像系统的核心元件之一,为了研制高分辨率X射线波带片,对纳米结构的电子束光刻和高精度电镀进行了实验研究。首先,通过对电子束曝光工艺版图进行优化设计,平衡了邻近效应对纳米结构的影响,有效地控制了光刻胶的扭曲和坍塌。实验结果表明,采用校正的工艺版图,用线曝光方式在800 pC/cm2剂量下可以研制出厚度为270 nm、最外环宽度为50 nm的高分辨率X射线波带片光刻胶结构。然后,在配制的柠檬酸金钾电镀液中,优化了电镀工艺参数。采用金含量为10%的柠檬酸金钾电镀液,各电镀参数pH值为4.2,电镀温度为50℃,电流密度为0.2 A/dm2电镀出高分辨率X射线波带片。熊瑛,刘刚,田扬超 - 传感技术学报文章来源： 万方数据 -
表面垂直取向对HPDLC光栅特性的影响
为了提高聚合物/液晶(HPDLC)光栅的衍射效率并改善光栅的表面形貌,研究了表面垂直取向处理对HPDLC光栅的影响。首先,研究了表面垂直处理对液晶分子的取向作用,发现垂直取向层对液晶的锚定作用随着盒厚的增加而逐渐减弱,取向层的作用范围大概在3μm ~5μm之间;其次,对相分离程度进行了实验表征,结果表明,随着液晶盒厚度的增加,相分离开始的时间越来越快,并且分离程度也越来越彻底。最后,讨论了表面垂直取向对 HPDLC光栅衍射效率的影响,随着盒厚的增加,相分离出来的液晶微滴形成连续的区域,光栅的衍射效率逐渐升高,当盒厚增加到一定程度,其衍射效率和无取向处理的光栅接近。当盒厚过大时,垂直取向处理对HPDLC光栅散射损失并没有太大的改善,只有当盒厚适中(12μm)时,光栅的衍射效率最高,散射损失最小。李文萃,舒新建,杨燚,黄文彬 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
角度计量中三光栅光学系统应用分析
在目前的角度计量工作中普遍采用光电轴角编码器作为测角器件,而光栅系统由于具有分辨率高、稳定性好、出错率低、环境适应性强等特点而得到了计量界的认可.结合计量工作误差处理严谨、不确定度来源分析透彻的要求,在分析了三光栅光学系统原理的基础上,提出了针对其正弦输出信号的自适应滤波方法.王胜磊,刘福,雷正伟,张永伟 - 现代电子技术文章来源： 万方数据 -
基于 SOI 工艺的扭转式微机械扫描光栅设计及制作
为实现微型光谱仪在工程领域的广泛应用,研究了其核心器件---扭转式微机械扫描光栅的结构与制作方法。利用SOI工艺,设计一种无需启动电极的静电梳齿驱动结构,可以使扭转式微机械扫描光栅具有低频驱动、制作工艺简单、扫描范围广等优点。通过设计的制作工艺方法,研制出了能够初步满足性能要求的扭转式微机械扫描光栅样件。测试结果表明:该微扫描光栅在驱动电压为25 V时最大转角可达到±4.8°,对应的光学扫描角为19.2°。靳倩 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
镧对呋喃树脂炭的催化石墨化
报道了镧对呋喃树脂炭的催化石墨化.把氯化镧均匀分散在呋喃树脂中,然后在180℃左右固化,600℃炭化;最后将含有镧的呋喃树脂炭于不同温度下进行热处理.采用X射线衍射分析仪考察镧对呋喃树脂炭的催化石墨化效果,通过Scherrer和Bragg方程分别计算石墨表观微晶尺寸(Lc)和(002)面的层间距(dOG2);采用扫描电子显微镜观察炭材料的形貌变化.结果表明镧对呋喃树脂炭具有明显的催化石墨化作用;呋喃树脂炭的石墨化度随镧含量的增加而增加,并随热处理温度的升高有明显变化.在2400℃时,石墨化效果最好,最小d0O2值为0.336 0 nm,相应的石墨化度为93%.炭的催化石墨化机理遵循碳化物分解和碳的熔解析出机理.易守军,唐子龙,夏晓东,李友凤,殴宝立 - 华中师范大学学报(自然科学版)文章来源： 万方数据 -
同步辐射小角散射法和中子衍射法研究中子辐照A1-B合金结构
为了研究He在材料中的行为,借助10B的(n,α)核反应,通过反应堆热中子对Al-B合金进行辐照,引入He原子密度达6.2*1025 m-3.采用同步辐射X射线小角散射法(Synchrotron small angle X-ray scattering,SAXS)原位测试了不同温度下合金中He的状态变化,并结合透射电镜(Transmission electron microscope,TEM)对试样进行了观察;采用X射线衍射和中子衍射法分析了合金晶格参数的变化.SAXS分析表明,随着温度升高试样内部的颗粒和孔洞消失,He泡数量不断增多、尺寸增大.700 oC下He泡的半径大约增大到10 nm,与室温时颗粒和孔洞相当.衍射分析表明,B原子引入使得Al晶格常数增大,但不存在可见的第二相,中子辐照使得生成的Li和He原子进入Al晶格,进一步加大了晶格常数.辐照后的样品加热使得He从晶格间隙位置扩散到晶界形成He泡,从而缓解了对晶格的挤压,导致了晶格常数的回复减小,第一性原理计算得到的间隙原子B、Li、He引起的晶格肿胀解释了这一结果.黄朝强,闫冠云,谢雷,孙良卫,陈波,刘耀光,盛六四,刘晓,吴忠华 - 核技术文章来源： 万方数据 -
低质煤煤灰高温熔融机理的试验研究
为充分利用西南地区的煤炭资源,选取西南地区较有代表性的低质煤紫燕煤与低灰分、高热值的汇瑞煤和鲁南煤进行比较,利用X射线衍射(XRD)物相分析研究不同煤灰在不同温度下的矿物组成变化.结果表明:煤灰的熔融温度与高岭石的含量成正比,与方解石、白云母和磁铁矿等成反比.在1000℃时,莫来石、钙黄长石和钙长石开始形成,莫来石和钙黄长石随着温度的升高先增加后下降.紫燕煤在加热过程中生成大量的莫来石是导致煤灰熔融温度较高的主要原因.汇瑞煤在高温下生成的莫来石和钙黄长石反应生成钙长石,有效的抑制了莫来石的生成,这也是其熔点较低的原因.鲁南煤生成的莫来石含量少且参与钙长石的形成,因此,其煤灰熔点温度介于两者之间.通过对比研究,为应用紫燕煤等低质煤时,有效防止窑系统结皮堵塞及堆"雪人"提供帮助.李爱莉,考宏涛,郭涛,任斌,柴晓东,黄华 - 混凝土文章来源： 万方数据 -
白云岩自然吸水特性试验研究
水对岩石强度的影响极其复杂,含水的岩石强度指标表征折减,而吸水率是主导岩石强度指标弱化的关键因素.为探讨吸水率对岩石抗剪强度指标的影响规律,以白云岩为研究对象,进行粉晶X-衍射成分分析、浸水试验及直剪试验测试研究分析,结果表明:白云岩自然吸水率偏低,且与时间呈良好的对数关系;岩石强度随浸水时间的增加其抗剪强度指标参数c、φ明显弱化;白云岩吸水率与明显湿度百分比关系密切,以明显湿度百分比量化岩石吸水率,两者呈现良好的二次函数关系.吴勇,王景环,梁威,赵宝生 - 工程勘察文章来源： 万方数据 -
衍射光学元件车削补偿技术的研究
超精密单点金刚石车削加工是高精度衍射光学元件制造的重要方法,但是以往的加工方法是直接一次车削加工成型,无法实现具有加工‐检测‐补偿加工‐检测的闭环控制特点的超精密加工,从而导致零件精度较低。针对这种加工技术的缺陷,通过研究衍射光学元件金刚石车削过程和面形状误差补偿,对表面轮廓仪实际测量的轮廓数据进行处理,计算出实际车削曲线与理想曲线之间的法向残余误差,以此获得新的金刚石车削加工轨迹,实现衍射光学元件的超精密闭环控制加工。利用单点金刚石车床对口径78的衍射光学元件进行补偿加工试验,最终使其PV值由10.4μm经过一次补偿加工后降为4.3μm。张峰,汪志斌,张云龙,郭小刚,苏瑛,郭芮 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
有机聚合物P3HT/PCBM薄膜的同步辐射掠入射X身寸线衍射
以聚己基噻吩(poly(3-hexyl-thiophene),P3HT)为电子给体材料和富勒烯的衍生物([6,6]-phenyl C61-butyric acid methyl ester,PCBM)为电子受体材料的有机光伏器件,其活性层中P3HT的结构有序性是制约器件光电转换性能的重要因素.本文采用同步辐射掠入射x射线衍射(Grazing Incidence X-ray Diffraction,GIXRD)方法,研究有机聚合物P3HT/PCBM薄膜经过不同的温度退火后P3HT在薄膜中不同深度处的微结构变化.一维面外GIXRD实验结果表明:退火处理使大量的PCBM分子扩散至薄膜表层,从而增大了薄膜表层P3HT分子edge-on结构的层间距和改善了晶粒倾斜程度;退火处理使得薄膜内部P3HT分子edge-on结构结晶性和有序性得到明显改善.然而,退火处理并没有明显增加薄膜表层和薄膜/衬底界面处的P3HT分子edge-on结构的结晶性.二维GIXRD实验结果表明:退火处理可以明显增加薄膜中P3HT分子edge-on结构结晶性、有序性以及晶粒取向的广泛分布;退火处理也使薄膜沿面内方向出现了结晶性较好的face-on结构.以上结果揭示出退火处理有利于薄膜表面、内部以及薄膜/衬底界面处形成更多且更有序的微相异质节和二维电荷传输通道,大大增强光生激子的分离效率和载流子沿P3HT分子链的迁移速率,这对理解退火处理提高P3HT/PCBM薄膜光伏器件的光电转换性能具有重要意义.杨迎国,郑官豪杰,季庚午,冯尚蕾,李晓龙,高兴宇 - 核技术文章来源： 万方数据
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