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超薄Ni_(81)Fe_(19)薄膜的各向异性磁电阻及磁性能
利用磁控溅射方法制备了一系列超薄Ta(5nm)/Ni81Fe19(20nm)/Ta(3nm)磁性薄膜.着重研究了基片温度、缓冲层厚度对Ni81Fe19薄膜各相异性磁电阻(AMR)及磁性能的影响.利用X射线衍射仪分析了薄膜结构、晶粒取向;用四探针技术测量了薄膜的电阻率和各向异性磁电阻;用FD-SMOKE-A表面磁光克尔效应试验系统测量了薄膜的磁滞回线.结果表明:在基片温度为400℃时制备的Ni81Fe19薄膜具有较大的各向异性磁电阻效应和较低的磁化饱和场,薄膜最大各向异性磁电阻为3.5%,最低磁化饱和场为739.67A/m.基片温度为500℃制备的薄膜,饱和磁化强度Ms值最大.随着缓冲层厚度x的增加,坡莫合金薄膜的AMR值先变大后减小,在x=5nm时达到最大值.王书运,何建方,王存涛 - 理化检验(物理分册)文章来源： 万方数据 -
超薄切片自动染色机应用体会
随着超微病理技术的快速发展,超薄切片自动染色机已逐步取代传统超薄切片的双面染色手工工艺.大庆油田总医院病理科自2003年开始使用超薄切片自动染色机,不仅加快了实验进程,而且规范了染色结果,现介绍如下.1材料与方法1.1仪器和设备Leica EM STAIN超薄切片自动染色机(德国徕卡公司)、铜网装载框架、硅胶板、6个玻璃瓶(分别是装废液、废弃的醋酸双氧铀、废弃的柠檬酸铅、3%硝酸溶液、蒸馏水、3%硝酸溶液扩展瓶).1.2试剂0.5%醋酸双氧铀(染液1)、3%柠檬酸铅(染液2)、3%硝酸溶液、蒸馏水.李博 - 临床与实验病理学杂志文章来源： 万方数据 -
透射电镜超薄切片染色铅污染的补救方法
超薄切片染色是透射电镜样本制备的关键步骤,铅污染在日常工作中并不少见[1],可直接影响电镜观察.本文现介绍一种有效消除铅污染的补救方法,报道如下.1材料与方法铜网镊夹于铜网边缘,浸入200 ml 0.05‰~0.06‰稀硝酸溶液中漂洗15~20 s,污染严重者可适当延长漂洗时间5~10 s;再用蒸馏水漂洗5 s*3次,滤纸吸干铜网,电镜观察.2结果超薄切片中黑色致密的圆形或不定形颗粒经稀硝酸处理后被消除,组织切片未见破损、脱落;细胞微细结构保存张丽芳,姚梅宏,曲利娟,曾德华 - 临床与实验病理学杂志文章来源： 万方数据 -
超薄切片染色方法的改进及体会
在透射电子显微镜(transmission electron microscopy,TEM)(简称电镜)检查中,为确保检查的效率及拍片质量,所提供的超薄切片除应具备厚薄适中、平整、无刀痕和颤痕特征外,还需干净、结构反差效果好.由于生物样品本身结构的反差低,需经过重金属染色才能在电镜下显示清晰的超微结构.利用重金属离子对不同细胞结构的结合能力不同,使细胞内各结构对电子产生不同的散射能力,显示在荧光屏上,产生不同的反差[1].以往实验均采用铀-铅双染法进行染色,由于该染色方法影响因素较多,结果常不稳定,故人们刘湘花,董修兵,孙丽敏,马超,李瑞琴 - 临床与实验病理学杂志文章来源： 万方数据 -
一种监控膜厚的新算法
光学薄膜的光学特性与其每一膜层的厚度密切相关,为了制备出符合要求的光学薄膜产品,在制备过程中必须监控膜厚.光学薄膜实时监控精度决定了所镀制的光学薄膜的厚度精度.针对光电极值法极值点附近监控精度低、无法精确监控非规整膜系的缺陷,提出了新的光学薄膜膜厚监控算法.该算法通过数学运算,使得光学薄膜的光学厚度与透射率呈线性关系,并且有效地消除光源波动、传输噪声等共模干扰的影响,算法精度可控制在2%以内.弥谦,赵磊 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
杜邦扩大聚酰亚胺薄膜产能
杜邦公司7月底宣布,由于聚酰亚胺薄膜需求持续强劲增长,该公司打算对在美国俄亥俄州Circleville的Kapton品牌聚酰亚胺薄膜装置进行扩能改造,今年第四季度该装置产能将增加400t/a.Kapton薄膜具有较好的导热性和耐电晕性,可用于消费类电子、光伏能源、航空航天、汽车等领域.- 塑料工业文章来源： 万方数据 -
Hf02/Si02薄膜的激光预处理作用研究
对电子柬蒸发方式镀制的HfO2/SiO2反射膜采用大口径激光进行辐照,采用激光量热计测量了激光辐射前后的弱吸收值.实验发现HfO2/SiO2反射膜在分别采用1064nm和532nm的激光辐照前后薄膜吸收分别从5.4%和1.7%降低到1.4和1.2%.采用聚焦离子束技术分析了激光辐照后薄膜的损伤形态并探究了损伤原因,发现:薄膜在激光辐照下存在节瘤的地方容易出现薄膜损伤,具体表现为熔融、部分喷发、完全脱落3种形态,节瘤缺陷种子来源的差异是导致其损伤机理也存在着巨大差异的主要原因.同时这些节瘤缺陷种子来源也影响着激光预处理作用效果,激光预处理技术对于祛除位于基底上种子形成的节瘤是有效的,原因是激光辐射过后该节瘤进行了预喷发而不会对后续激光产生影响;而激光预处理技术对位于膜层中间的可能是镀膜过程中材料飞溅引起的缺陷是无效的,需要通过飞秒激光手段对该类节瘤进行祛除.李海波,杜雅薇,张清华,卫耀伟 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
辐照激光能量对SiO2薄膜特性及结构的影响
为了认识SiO2薄膜在激光辐照下的变化,本文以K9玻璃为基底,采用电子束热蒸发方法制备了SiO2薄膜,并将此组在相同实验条件下制备的薄膜加以不同能量的激光辐照,研究在激光辐照前后样片的透射率、折射率、消光系数、膜厚、表面形貌及激光损伤阈值(LIDT)的变化.结果表明,样片膜厚随激光能量的增加而减小,辐照激光能改善薄膜表面形貌,并使样片LIDT值提高,最终能使样片的LIDT值从16.96 J/cm2提高至18.8 J/cm2.郭芳,徐均琪,苏俊宏,党少坤,基玛·格拉索夫 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
弹载全弹道多参数测试仪
为了准确测量引信在膛内及飞行过程的动态参数,设计了一种可置于引信内部通用、灵活的微型多参数测试仪,它具有小体积、微功耗、抗高冲击等特点。该测试仪使用了薄膜线圈和加速度传感器,成功获取了引信在膛内和发射过程的三轴加速度及转速信号。此研究对于引信、弹丸和火炮的设计和研究有着十分重要的意义。祁少文,范锦彪,王燕,马铁华 - 传感技术学报文章来源： 万方数据 -
基于黑体辐射感温薄膜的瞬态高温传感器的设计
针对瞬态高温的测量难题,采用辐射式测温技术和接触式测温技术有机结合的方法,设计了由黑体辐射温度敏感体、圆柱状高强度金属外壳以及壳内信号调理电路构成的瞬态高温测量装置。通过对感温薄膜特殊材料的恰当选取以及整体结构的合理设计,并利用ANSYS软件对其黑体感温薄膜进行了瞬态高温热传导分析。分析表明,施加的温度载荷为2000℃、2500℃、3000℃时,此温度传感器响应时间分别为487.001μs、545.001μs、590.001μs ,能够克服传统瞬态温度传感器体积大、响应慢、安装不方便以及易受恶劣环境因素影响等不足,在测温技术领域具有良好的应用价值。王俊峰,李晋英 - 应用光学文章来源： 万方数据
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