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光学面形的轮带光学抛光方法研究
鉴于光学零件高陡度凹曲面的抛光是光学加工的一个难题,轮带光学确定性抛光方法是解决此类零件抛光的有效方法之一;提出轮带光学抛光技术的原理和方法.研究了轮带光学抛光方法修形的可行性,采用五轴精密数控机床系统对一块直径Φ80 mm的K9玻璃平面样镜进行了修形试验,经过3次迭代修形使其面形精度均方根误差(RMS)由初始的0.109 λ提高到0.028 λ,平均每次收敛率达到1.3.实验结果表明,应用轮带光学抛光技术进行光学镜面修形,面形收敛速度较快,加工精度较高.本实验验证了轮带光学抛光技术的修形能力,为高陡度光学零件的抛光提供了研究基础.李宁,尹自强,田富竟 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
铝合金表面的直接光学抛光实验
单点金刚石车削铝合金表面具有较好的表面质量和精度,但车削“纹路”会产生散射现象,难以满足高品质光学系统要求。对铝合金表面进行直接光学抛光可以去掉表面产生的车削“纹路”,提高反射表面的光学性能,分析酸性条件下和碱性条件下的铝镜抛光原理,采用新型抛光盘与抛光液对单点金刚石车削后铝合金表面进行抛光实验。实验结果表明:通过合理控制工艺参数,能够消除铝合金表面残留的周期性车削刀纹,并且不会产生新的表面划痕,得到较好的铝镜光学表面质量,测得的铝镜表面粗糙度 R a=2.6 nm。张艺,尹自强,尹国举 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
LiN bO 3芯片的无损边缘抛光实验
以抛光垫抛光工艺为基础,研究出一套完整的新型无损边缘抛光工艺,成功实现了高精度光纤陀螺集成光学调制器LiNbO3芯片边缘的无损抛光。即在分析LiNbO3芯片边缘抛光过程中棱边损伤产生原因的基础上,提出3条解决措施:控制研抛浆料中的大颗粒;选择低亚表面损伤的抛光方式;抛光颗粒的大小接近或小于临界切削深度的2倍。加工工件棱边在1500×显微镜下观察无可见缺陷,芯片端面的表面粗糙度 Ra≤0.8 nm,表面平面度优于λ/2,满足了LiNbO3芯片无损边缘抛光要求。同时,该工艺方法具有较大的推广应用价值。李攀,白满社,邢云云,严吉中 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
工业用线钳表面抛光机床液压系统的设计
工业用线钳表面抛光机床是一种新型的磨削装置,其磨削过程用液压系统控制,从而实现大批量加工.该文首先利用三维设计软件UG NX3进行液压系统结构设计,再从结构方案的确定、主要部件的设计计算以及系统原理图的确定等几个方面对工业用线钳表面抛光机床液压系统进行了详细的分析,确保其性能良好.实验和应用证明:该液压系统运转平稳,稳定性和调节性能较好且密封可靠,使用效果良好.李园园,方世杰,高勇 - 液压与气动文章来源： 万方数据 -
大相对孔径中波红外变焦系统的小型化设计
大相对孔径变焦系统在像差补偿自由度较少的光学补偿式变焦系统中,通常需采用较多的镜片才能完成像差校正,导致系统体积和质量不甚理想。通过合理分配变焦参数,优化变焦系统结构,并进行非球面与衍射面复合叠加设计,完成了一个仅含8片透镜的光学补偿式变焦系统。相对孔径1∶1.8,采用320像素×240像素制冷焦平面探测器,工作波段3μm~5μm,变倍比为5×,实现了30mm/60mm/90mm/150mm四档变焦,冷光阑效率100%。折叠光路后,体积约为210mm×100mm×85mm,结构紧凑,以较少的镜片数辅以机械结构的光学补偿变焦方式有效减轻了整机质量。付薇,潘国庆,尹娜,孙金霞 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
磷化铟单晶片三步抛光技术研究
在磷化铟单晶片的抛光工艺中,将整个抛光过程分为粗抛、中抛以及精抛三个阶段,分别实现对磷化铟抛光片的总厚度变化、局部厚度变化以及表面粗糙度的控制.在粗抛阶段,采取压纹结构的抛光布、硅胶直径大的抛光液、有效氯含量高的氧化剂等措施,使化学作用、机械作用在较高的作用模式下达到平衡,使磷化铟单晶片表面快速达到镜面水平.在中抛阶段,采取平面结构抛光布、硅胶直径较小的抛光液、过氧化氢为氧化剂等措施,使化学作用、机械作用在较低的作用模式下达到平衡,实现对磷化铟单晶片局部平整度的控制.在精抛阶段,采取绒毛结构抛光布、硅胶直径更小的抛光液、过氧化氢为氧化剂等措施,实现对磷化铟单晶片表面粗糙度的控制.杨洪星,王云彪,刘春香,赵权,林健 - 微纳电子技术文章来源： 万方数据 -
Lyot型单色光退偏器设计与研究
为了实现单色线偏振光的退偏,在Lyot型退偏器的基础上,设计了一种新型退偏器.该器件由2个慢轴夹角为45°的1/4波片组成,通过对透射光的叠加分析,发现该退偏器可将任意振动方位角的线偏振光转化为强度稳定的圆偏振光,并得到其退偏度表达式.针对633 nm波段,精选2个1/4波片制作样品,并测试其退偏度.测试结果表明:对不同方位角的线偏振光,退偏器退偏度超过94%,当微调入射角时,退偏度则达到97%以上.任树锋,吴福全 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
基于双磨头的磁流变抛光机床与工艺研究
针对传统单磨头磁流变抛光技术的不足,提出了一种新的双磨头磁流变抛光方法,并研制了一台八轴数控双磨头磁流变抛光机,具备了大口径平面、非球面及连续位相板的超精密、高效率加工能力。分别研究了大、小磨头材料去除特性及面形修正能力,不仅获得了稳定、有效的大、小抛光斑,而且获得了超精的大、小平面工艺样件。φ50 m m小平面经小磨头一次连续抛光,在φ45 mm内其面形精度PV由0.21λ收敛至0.08λ、RMS由0.053λ收敛至0.015λ;430 mm ×430 mm大平面经大磨头3次迭代抛光,在410 mm ×410 mm内其面形精度PV由0.4λ收敛至0.1λ、RM S由0.068λ收敛至0.013λ。由此表明,所研制的双磨头磁流变抛光机床具有较好的材料去除特性和较强的面形修形能力。黄文,张云飞,郑永成,罗清,侯晶,袁志刚 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
数字全息技术中双 CCD 镜像重叠位置的调节与标定
CCD像素数和动态范围的不足极大地限制了数字全息技术的发展与应用,针对这一问题提出基于信息融合的双CCD镜像重叠布置方案。该方案首先给出了利用2个球面波干涉的方法来判断2个CCD的空间相对位置,并证明了该方法的可行性。然后在实验中利用球面波与平面波进行离轴干涉并结合数字干涉技术来实时地调节2个CCD的位置,使其相对位置初步达到镜像重叠。最后再利用计算机数字图像处理技术进行更加精确的标定,得出2个CCD之间镜像重叠位置的标定参数。实验结果表明,利用上述方法能够较精确地调节和标定2个CCD的相对镜像重叠位置,其误差仅为14μm。潘云,潘卫清 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
亚10 μm线宽的投影光刻物镜设计及其成像性能的实验测定
采用Zemax软件设计出6镜片、数值孔径为0.06、2倍缩小、以405 nm半导体激光器为光源、分辨精度达5μm、视场12 mm×12 mm内波像差小于1/4波长、畸变小于0.005%的双远心投影光刻物镜的设计方法.将设计的物镜实物化,并对其光学传递函数(MTF)作精确的实验测定,利用所提出的MTF标准实验测量法,得到该投影物镜的成像性能达亚10μm线宽.雷亮,李浪林,袁炜,刘新,周金运 - 应用光学文章来源： 万方数据
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