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辐照激光能量对SiO2薄膜特性及结构的影响
为了认识SiO2薄膜在激光辐照下的变化,本文以K9玻璃为基底,采用电子束热蒸发方法制备了SiO2薄膜,并将此组在相同实验条件下制备的薄膜加以不同能量的激光辐照,研究在激光辐照前后样片的透射率、折射率、消光系数、膜厚、表面形貌及激光损伤阈值(LIDT)的变化.结果表明,样片膜厚随激光能量的增加而减小,辐照激光能改善薄膜表面形貌,并使样片LIDT值提高,最终能使样片的LIDT值从16.96 J/cm2提高至18.8 J/cm2.郭芳,徐均琪,苏俊宏,党少坤,基玛·格拉索夫 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
铸造生产中硅砂的选用
介绍了硅砂的膨胀相变特性及其与各种铸造缺陷的关系.叙述了铸造用硅砂的物化性能要求,包括SiO2含量、粒度分布、表面形貌、表面洁净度等.说明了不同用途的原砂的选用原则:包括铸钢用砂,铸铁用砂,铸铜、铸铝用砂,V法用砂,消失模及实型用砂,树脂自硬砂,覆膜砂用砂等.最后指出,铸造用砂应根据铸件种类、铸件大小、铸型类别、工厂生产条件,就近合理选用原砂;人造硅砂易破碎、复用性差,除一次性用砂的水玻璃型和厚大铸件使用外,尽量慎用.张江,王文中 - 现代铸铁文章来源： 万方数据 -
沉淀剂对CuO/SiO2催化剂糠醛加氢性能的影响
采用溶胶-凝胶法以不同化合物为沉淀剂制备CuO/SiO2催化剂,通过扫描电镜(SEM)、低温N2吸附、X射线衍射(XRD)和H2程序升温还原(H2-TPR)对催化剂样品进行表征.结果表明,以NaOH为沉淀剂制得的催化剂比表面积较小、孔容低,催化剂中CuO粒径大、分散度较低.以Na2CO3为沉淀剂制备的催化剂孔隙发达,催化剂中CuO粒径小、分散度高.在常压,反应温度220℃,H2与糖醛物质的量比为5∶1,催化剂体积为5 mL,液时空速为2 h-1的反应条件下,糠醛转化率达到94.1%,糠醇的选择性在97%以上.张蕊,柳来栓,安文平,李裕,李楠 - 测试技术学报文章来源： 万方数据 -
纳米SiO2在不同分散条件下对水泥基材料微观结构、性能的影响
采用手工搅拌、高速研磨搅拌以及高速研磨搅拌加超声波震荡这3种方法对纳米SiO2进行分散处理,研究了不同处理方式下纳米SiO2对水泥浆体性能的影响.用扫描电镜(SEM)观测了浆体微观结构,并采用紫外-可见分光光度法测定了在不同分散方法下纳米SiO2的分散程度.结果表明,采用后2种方法处理的纳米SiO2分散程度更高,可大幅提高水泥砂浆的抗压、抗折强度,使砂浆水化产物结构均匀,更密实.董健苗,刘晨,龙世宗 - 建筑材料学报文章来源： 万方数据 -
长脉冲激光辐照下单层Hf02薄膜的温度场分析
激光系统中的光学薄膜极易受到高能激光的辐照而产生热损伤,因此研究长脉冲激光作用下光学薄膜的温度场非常重要.建立了二维轴对称杂质模型,使用有限元方法计算了单层HfO.薄膜材料的瞬态温度分布,进一步分析了铂金杂质粒子的吸收系数、填满深度对膜层及其基底最大温升的影响.结果表明:相比于纯净HfO2薄膜,当薄膜中杂质粒子深度为100nm时,其表面最大温度增加1倍左右;当粒子深度大于750nm时,基底温度高于薄膜表面温度,从而可以使热损伤从薄膜基底开始.研究结果对于长脉冲激光系统中的光学薄膜的制备和预处理,具有一定的指导意义.李洪敬 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
GaAs 多结电池宽光谱 ZnS/Al2O3/M gF2减反射膜的设计与分析
为了提高砷化镓(GaAs )多结太阳电池的光电转换效率,设计了宽光谱(300 nm~1800 nm ) ZnS/Al2 O3/MgF2三层减反射膜,分析了各层的厚度及折射率对三层膜系有效反射率的影响。结果表明:对于整个波长,ZnS厚度对有效反射率的影响要大于Al2 O3和MgF2,MgF2厚度对有效反射率的影响最小;适当减小MgF2的折射率或增加ZnS 的折射率可得到更低的有效反射率。同时,当ZnS ,Al2O3和MgF2的最优物理厚度分别为52.77 nm ,82.61 nm ,125.17 nm时,此时最小有效反射率为2.31%。肖祥江,涂洁磊,白红艳 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
一种监控膜厚的新算法
光学薄膜的光学特性与其每一膜层的厚度密切相关,为了制备出符合要求的光学薄膜产品,在制备过程中必须监控膜厚.光学薄膜实时监控精度决定了所镀制的光学薄膜的厚度精度.针对光电极值法极值点附近监控精度低、无法精确监控非规整膜系的缺陷,提出了新的光学薄膜膜厚监控算法.该算法通过数学运算,使得光学薄膜的光学厚度与透射率呈线性关系,并且有效地消除光源波动、传输噪声等共模干扰的影响,算法精度可控制在2%以内.弥谦,赵磊 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
杜邦扩大聚酰亚胺薄膜产能
杜邦公司7月底宣布,由于聚酰亚胺薄膜需求持续强劲增长,该公司打算对在美国俄亥俄州Circleville的Kapton品牌聚酰亚胺薄膜装置进行扩能改造,今年第四季度该装置产能将增加400t/a.Kapton薄膜具有较好的导热性和耐电晕性,可用于消费类电子、光伏能源、航空航天、汽车等领域.- 塑料工业文章来源： 万方数据 -
超薄Ni_(81)Fe_(19)薄膜的各向异性磁电阻及磁性能
利用磁控溅射方法制备了一系列超薄Ta(5nm)/Ni81Fe19(20nm)/Ta(3nm)磁性薄膜.着重研究了基片温度、缓冲层厚度对Ni81Fe19薄膜各相异性磁电阻(AMR)及磁性能的影响.利用X射线衍射仪分析了薄膜结构、晶粒取向;用四探针技术测量了薄膜的电阻率和各向异性磁电阻;用FD-SMOKE-A表面磁光克尔效应试验系统测量了薄膜的磁滞回线.结果表明:在基片温度为400℃时制备的Ni81Fe19薄膜具有较大的各向异性磁电阻效应和较低的磁化饱和场,薄膜最大各向异性磁电阻为3.5%,最低磁化饱和场为739.67A/m.基片温度为500℃制备的薄膜,饱和磁化强度Ms值最大.随着缓冲层厚度x的增加,坡莫合金薄膜的AMR值先变大后减小,在x=5nm时达到最大值.王书运,何建方,王存涛 - 理化检验(物理分册)文章来源： 万方数据 -
Hf02/Si02薄膜的激光预处理作用研究
对电子柬蒸发方式镀制的HfO2/SiO2反射膜采用大口径激光进行辐照,采用激光量热计测量了激光辐射前后的弱吸收值.实验发现HfO2/SiO2反射膜在分别采用1064nm和532nm的激光辐照前后薄膜吸收分别从5.4%和1.7%降低到1.4和1.2%.采用聚焦离子束技术分析了激光辐照后薄膜的损伤形态并探究了损伤原因,发现:薄膜在激光辐照下存在节瘤的地方容易出现薄膜损伤,具体表现为熔融、部分喷发、完全脱落3种形态,节瘤缺陷种子来源的差异是导致其损伤机理也存在着巨大差异的主要原因.同时这些节瘤缺陷种子来源也影响着激光预处理作用效果,激光预处理技术对于祛除位于基底上种子形成的节瘤是有效的,原因是激光辐射过后该节瘤进行了预喷发而不会对后续激光产生影响;而激光预处理技术对位于膜层中间的可能是镀膜过程中材料飞溅引起的缺陷是无效的,需要通过飞秒激光手段对该类节瘤进行祛除.李海波,杜雅薇,张清华,卫耀伟 - 应用光学文章来源： 万方数据
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