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多孔氢氧化钴薄膜的制备及其超级电容器性能
采用水热合成法在泡沫镍基体上制备了多孔氢氧化钴薄膜.薄膜由厚度约为20 nm的氢氧化钴片层组成.通过循环伏安法、恒电流充放电测试法等对多孔氢氧化钴薄膜电极在2 mol/LKOH电解液中进行电化学性能的测试.结果表明,多孔氢氧化钴薄膜具有良好的赝电容性能.在室温条件下,当电流密度为2 A/g时,多孔氢氧化钴薄膜比容量达到935 F/g,且其大电流放电性能优良,电流密度为40 A/g时其比容量达到589 F/g.多孔薄膜还表现出良好的循环特性,在电流密度2 A/g循环1500周期后,容量保持率为82.6%.张永起,夏新辉,康婧,涂江平 - 科学通报文章来源： 万方数据 -
日本制成由一种有机半导体组成的太阳电池
日本科学研究机构-分子科学研究所(IMS)的平本昌宏教授研究小组,在以往研究成果的基础上,成功开发出用单一有机半导体材料富勒烯(C60)分子单独形成薄膜,成功制成p-n同质结的有机半导体太阳电池,已得到验证.陈梅 - 电源技术文章来源： 万方数据 -
HO-1高表达对脂肪干细胞在低氧无血清条件下的保护作用及机制
目的:探讨诱导内源性血红素氧合酶-1(HO-1)表达对脂肪干细胞(ADSCs)在低氧无血清条件下的保护作用及其可能的分子机制.方法:分离培养SD大鼠脂肪干细胞进行低氧无血清处理,DAPI染色检测细胞凋亡率;Western blotting法分析HO-1、NLRP3、凋亡相关斑点样蛋白(ASC)和cleaved caspase-1的蛋白表达;ELISA法测定培养上清液中白细胞介素-1β(IL-1β)的水平;采用DCFH-DA荧光探针检测细胞内活性氧(ROS)的水平.结果:钴原卟啉诱导ADSCs HO-1蛋白呈剂量依赖性表达,以20μmol/L最为显著;诱导内源性HO-1的表达明显抑制ADSCs在低氧无血清条件下的细胞凋亡率和NLRP3、ASC、cleaved caspase-1的蛋白表达,并减少细胞内ROS和上清液IL-1β的水平;而这种保护效应可被同时给予的HO-1抑制剂锌原卟啉所逆转.结论:诱导内源性HO-1的表达可能通过抑制NLRP3炎症小体的激活以及减少IL-1β的分泌,对低氧无血清条件下ADSCs发挥保护作用.周中新,程轶,代传忠,武维恒 - 中国病理生理杂志文章来源： 万方数据 -
一种监控膜厚的新算法
光学薄膜的光学特性与其每一膜层的厚度密切相关,为了制备出符合要求的光学薄膜产品,在制备过程中必须监控膜厚.光学薄膜实时监控精度决定了所镀制的光学薄膜的厚度精度.针对光电极值法极值点附近监控精度低、无法精确监控非规整膜系的缺陷,提出了新的光学薄膜膜厚监控算法.该算法通过数学运算,使得光学薄膜的光学厚度与透射率呈线性关系,并且有效地消除光源波动、传输噪声等共模干扰的影响,算法精度可控制在2%以内.弥谦,赵磊 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
杜邦扩大聚酰亚胺薄膜产能
杜邦公司7月底宣布,由于聚酰亚胺薄膜需求持续强劲增长,该公司打算对在美国俄亥俄州Circleville的Kapton品牌聚酰亚胺薄膜装置进行扩能改造,今年第四季度该装置产能将增加400t/a.Kapton薄膜具有较好的导热性和耐电晕性,可用于消费类电子、光伏能源、航空航天、汽车等领域.- 塑料工业文章来源： 万方数据 -
超薄Ni_(81)Fe_(19)薄膜的各向异性磁电阻及磁性能
利用磁控溅射方法制备了一系列超薄Ta(5nm)/Ni81Fe19(20nm)/Ta(3nm)磁性薄膜.着重研究了基片温度、缓冲层厚度对Ni81Fe19薄膜各相异性磁电阻(AMR)及磁性能的影响.利用X射线衍射仪分析了薄膜结构、晶粒取向;用四探针技术测量了薄膜的电阻率和各向异性磁电阻;用FD-SMOKE-A表面磁光克尔效应试验系统测量了薄膜的磁滞回线.结果表明:在基片温度为400℃时制备的Ni81Fe19薄膜具有较大的各向异性磁电阻效应和较低的磁化饱和场,薄膜最大各向异性磁电阻为3.5%,最低磁化饱和场为739.67A/m.基片温度为500℃制备的薄膜,饱和磁化强度Ms值最大.随着缓冲层厚度x的增加,坡莫合金薄膜的AMR值先变大后减小,在x=5nm时达到最大值.王书运,何建方,王存涛 - 理化检验(物理分册)文章来源： 万方数据 -
载体对Pt催化剂在一甲胺湿式氧化中的催化性能影响研究
采用浸渍法制备了Pt/AC,Pt/ZrO2,Pt/Al2O3催化剂,并研究了其对一甲胺湿式氧化(CWAO)反应的催化性能.结果表明:载体对Pt的催化活性具有十分明显的影响,当Pt负载到活性炭(AC)载体表面时具有最佳的催化活性,其次是氧化锆,而当Pt负载到氧化铝载体表面时,其催化活性最低.一甲胺在Pt/AC,Pt/ZrO2,Pt/Al2O3催化剂表面被矿化所需最低温度分别为200,250和280℃.Pt/AC催化剂优异的催化活性主要归因于Pt与载体间的弱相互作用、活性炭的大比表面积以及载体自身具有一定的催化活性.宋爱英,吕功煊 - 分子催化文章来源： 万方数据 -
Hf02/Si02薄膜的激光预处理作用研究
对电子柬蒸发方式镀制的HfO2/SiO2反射膜采用大口径激光进行辐照,采用激光量热计测量了激光辐射前后的弱吸收值.实验发现HfO2/SiO2反射膜在分别采用1064nm和532nm的激光辐照前后薄膜吸收分别从5.4%和1.7%降低到1.4和1.2%.采用聚焦离子束技术分析了激光辐照后薄膜的损伤形态并探究了损伤原因,发现:薄膜在激光辐照下存在节瘤的地方容易出现薄膜损伤,具体表现为熔融、部分喷发、完全脱落3种形态,节瘤缺陷种子来源的差异是导致其损伤机理也存在着巨大差异的主要原因.同时这些节瘤缺陷种子来源也影响着激光预处理作用效果,激光预处理技术对于祛除位于基底上种子形成的节瘤是有效的,原因是激光辐射过后该节瘤进行了预喷发而不会对后续激光产生影响;而激光预处理技术对位于膜层中间的可能是镀膜过程中材料飞溅引起的缺陷是无效的,需要通过飞秒激光手段对该类节瘤进行祛除.李海波,杜雅薇,张清华,卫耀伟 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
用于催化氧气氧化苄醇到醛的新型且简单的催化体系(溴化铜/TEMPO/哌啶)(英文)
构建了一个可用于催化氧气氧化苄醇类醇到醛的新型催化体系(溴化铜/四甲基哌啶氧化物/哌啶).该体系以乙腈为溶剂,可以在50℃下高活性和选择性地催化氧气将含不同取代基的苄醇氧化为相应的醛.然而,该体系对于仲醇、脂肪族伯醇以及烯丙醇类型醇的氧化没有催化活性.张月成,郭泽民,曹小辉,马文婵,赵继全 - 分子催化文章来源： 万方数据 -
辐照激光能量对SiO2薄膜特性及结构的影响
为了认识SiO2薄膜在激光辐照下的变化,本文以K9玻璃为基底,采用电子束热蒸发方法制备了SiO2薄膜,并将此组在相同实验条件下制备的薄膜加以不同能量的激光辐照,研究在激光辐照前后样片的透射率、折射率、消光系数、膜厚、表面形貌及激光损伤阈值(LIDT)的变化.结果表明,样片膜厚随激光能量的增加而减小,辐照激光能改善薄膜表面形貌,并使样片LIDT值提高,最终能使样片的LIDT值从16.96 J/cm2提高至18.8 J/cm2.郭芳,徐均琪,苏俊宏,党少坤,基玛·格拉索夫 - 应用光学文章来源： 万方数据
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