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有机聚合物P3HT/PCBM薄膜的同步辐射掠入射X身寸线衍射
以聚己基噻吩(poly(3-hexyl-thiophene),P3HT)为电子给体材料和富勒烯的衍生物([6,6]-phenyl C61-butyric acid methyl ester,PCBM)为电子受体材料的有机光伏器件,其活性层中P3HT的结构有序性是制约器件光电转换性能的重要因素.本文采用同步辐射掠入射x射线衍射(Grazing Incidence X-ray Diffraction,GIXRD)方法,研究有机聚合物P3HT/PCBM薄膜经过不同的温度退火后P3HT在薄膜中不同深度处的微结构变化.一维面外GIXRD实验结果表明:退火处理使大量的PCBM分子扩散至薄膜表层,从而增大了薄膜表层P3HT分子edge-on结构的层间距和改善了晶粒倾斜程度;退火处理使得薄膜内部P3HT分子edge-on结构结晶性和有序性得到明显改善.然而,退火处理并没有明显增加薄膜表层和薄膜/衬底界面处的P3HT分子edge-on结构的结晶性.二维GIXRD实验结果表明:退火处理可以明显增加薄膜中P3HT分子edge-on结构结晶性、有序性以及晶粒取向的广泛分布;退火处理也使薄膜沿面内方向出现了结晶性较好的face-on结构.以上结果揭示出退火处理有利于薄膜表面、内部以及薄膜/衬底界面处形成更多且更有序的微相异质节和二维电荷传输通道,大大增强光生激子的分离效率和载流子沿P3HT分子链的迁移速率,这对理解退火处理提高P3HT/PCBM薄膜光伏器件的光电转换性能具有重要意义.杨迎国,郑官豪杰,季庚午,冯尚蕾,李晓龙,高兴宇 - 核技术文章来源： 万方数据 -
一种监控膜厚的新算法
光学薄膜的光学特性与其每一膜层的厚度密切相关,为了制备出符合要求的光学薄膜产品,在制备过程中必须监控膜厚.光学薄膜实时监控精度决定了所镀制的光学薄膜的厚度精度.针对光电极值法极值点附近监控精度低、无法精确监控非规整膜系的缺陷,提出了新的光学薄膜膜厚监控算法.该算法通过数学运算,使得光学薄膜的光学厚度与透射率呈线性关系,并且有效地消除光源波动、传输噪声等共模干扰的影响,算法精度可控制在2%以内.弥谦,赵磊 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
杜邦扩大聚酰亚胺薄膜产能
杜邦公司7月底宣布,由于聚酰亚胺薄膜需求持续强劲增长,该公司打算对在美国俄亥俄州Circleville的Kapton品牌聚酰亚胺薄膜装置进行扩能改造,今年第四季度该装置产能将增加400t/a.Kapton薄膜具有较好的导热性和耐电晕性,可用于消费类电子、光伏能源、航空航天、汽车等领域.- 塑料工业文章来源： 万方数据 -
超薄Ni_(81)Fe_(19)薄膜的各向异性磁电阻及磁性能
利用磁控溅射方法制备了一系列超薄Ta(5nm)/Ni81Fe19(20nm)/Ta(3nm)磁性薄膜.着重研究了基片温度、缓冲层厚度对Ni81Fe19薄膜各相异性磁电阻(AMR)及磁性能的影响.利用X射线衍射仪分析了薄膜结构、晶粒取向;用四探针技术测量了薄膜的电阻率和各向异性磁电阻;用FD-SMOKE-A表面磁光克尔效应试验系统测量了薄膜的磁滞回线.结果表明:在基片温度为400℃时制备的Ni81Fe19薄膜具有较大的各向异性磁电阻效应和较低的磁化饱和场,薄膜最大各向异性磁电阻为3.5%,最低磁化饱和场为739.67A/m.基片温度为500℃制备的薄膜,饱和磁化强度Ms值最大.随着缓冲层厚度x的增加,坡莫合金薄膜的AMR值先变大后减小,在x=5nm时达到最大值.王书运,何建方,王存涛 - 理化检验(物理分册)文章来源： 万方数据 -
Hf02/Si02薄膜的激光预处理作用研究
对电子柬蒸发方式镀制的HfO2/SiO2反射膜采用大口径激光进行辐照,采用激光量热计测量了激光辐射前后的弱吸收值.实验发现HfO2/SiO2反射膜在分别采用1064nm和532nm的激光辐照前后薄膜吸收分别从5.4%和1.7%降低到1.4和1.2%.采用聚焦离子束技术分析了激光辐照后薄膜的损伤形态并探究了损伤原因,发现:薄膜在激光辐照下存在节瘤的地方容易出现薄膜损伤,具体表现为熔融、部分喷发、完全脱落3种形态,节瘤缺陷种子来源的差异是导致其损伤机理也存在着巨大差异的主要原因.同时这些节瘤缺陷种子来源也影响着激光预处理作用效果,激光预处理技术对于祛除位于基底上种子形成的节瘤是有效的,原因是激光辐射过后该节瘤进行了预喷发而不会对后续激光产生影响;而激光预处理技术对位于膜层中间的可能是镀膜过程中材料飞溅引起的缺陷是无效的,需要通过飞秒激光手段对该类节瘤进行祛除.李海波,杜雅薇,张清华,卫耀伟 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
辐照激光能量对SiO2薄膜特性及结构的影响
为了认识SiO2薄膜在激光辐照下的变化,本文以K9玻璃为基底,采用电子束热蒸发方法制备了SiO2薄膜,并将此组在相同实验条件下制备的薄膜加以不同能量的激光辐照,研究在激光辐照前后样片的透射率、折射率、消光系数、膜厚、表面形貌及激光损伤阈值(LIDT)的变化.结果表明,样片膜厚随激光能量的增加而减小,辐照激光能改善薄膜表面形貌,并使样片LIDT值提高,最终能使样片的LIDT值从16.96 J/cm2提高至18.8 J/cm2.郭芳,徐均琪,苏俊宏,党少坤,基玛·格拉索夫 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
弹载全弹道多参数测试仪
为了准确测量引信在膛内及飞行过程的动态参数,设计了一种可置于引信内部通用、灵活的微型多参数测试仪,它具有小体积、微功耗、抗高冲击等特点。该测试仪使用了薄膜线圈和加速度传感器,成功获取了引信在膛内和发射过程的三轴加速度及转速信号。此研究对于引信、弹丸和火炮的设计和研究有着十分重要的意义。祁少文,范锦彪,王燕,马铁华 - 传感技术学报文章来源： 万方数据 -
基于黑体辐射感温薄膜的瞬态高温传感器的设计
针对瞬态高温的测量难题,采用辐射式测温技术和接触式测温技术有机结合的方法,设计了由黑体辐射温度敏感体、圆柱状高强度金属外壳以及壳内信号调理电路构成的瞬态高温测量装置。通过对感温薄膜特殊材料的恰当选取以及整体结构的合理设计,并利用ANSYS软件对其黑体感温薄膜进行了瞬态高温热传导分析。分析表明,施加的温度载荷为2000℃、2500℃、3000℃时,此温度传感器响应时间分别为487.001μs、545.001μs、590.001μs ,能够克服传统瞬态温度传感器体积大、响应慢、安装不方便以及易受恶劣环境因素影响等不足,在测温技术领域具有良好的应用价值。王俊峰,李晋英 - 应用光学文章来源： 万方数据 -
碳纳米涂层材料的二次电子发射系数及工艺研究
采用电泳沉积制备薄膜的方法,在铝合金镀银片上均匀的涂覆纳米碳涂层,研究了不同的电泳电压及电泳时间对涂层形貌结构的影响.扫描电子显微镜(SEM)、二次电子发射系数(SEY)测试结果表明,保持阴阳极间距为1 cm,在30 V的直流电压下电泳15 min所获得的样片涂层均匀、连续、致密且具有明显的陷阱结构.实验表明,其SEY最大值σmax达到2.03,对应的入射能量为500 eV,E1能量点在60 eV.使用Ar离子轰击清洗表面10 min后,样片的SEY最大值σmax达到1.76,对应的入射能量Emax为400 eV,E1能重点在80 eV.杨晶,崔万照,贺永宁 - 现代电子技术文章来源： 万方数据 -
长脉冲激光辐照下单层Hf02薄膜的温度场分析
激光系统中的光学薄膜极易受到高能激光的辐照而产生热损伤,因此研究长脉冲激光作用下光学薄膜的温度场非常重要.建立了二维轴对称杂质模型,使用有限元方法计算了单层HfO.薄膜材料的瞬态温度分布,进一步分析了铂金杂质粒子的吸收系数、填满深度对膜层及其基底最大温升的影响.结果表明:相比于纯净HfO2薄膜,当薄膜中杂质粒子深度为100nm时,其表面最大温度增加1倍左右;当粒子深度大于750nm时,基底温度高于薄膜表面温度,从而可以使热损伤从薄膜基底开始.研究结果对于长脉冲激光系统中的光学薄膜的制备和预处理,具有一定的指导意义.李洪敬 - 应用光学文章来源： 万方数据
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